集成電路布圖設計

        集成電路指半導體集成電路，即以半導體材料為基片，將至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路集成在基片之中或者基片之上，以執行某種電子功能的中間產品或者最終產品。 它是微電子技術的核心，電子信息技術基礎。廣泛應用于計算機，通訊設備，家用電器等電子產品。具備集成性，整體性及工藝嚴格性。

        布圖設計專有權，是指通過申請注冊后，依法獲得的利用集成電路設計布圖實現布圖設計價值得到商業利益的權利。

        （一）集成電路布圖設計權的主體

        按照我國《集成電路布圖設計保護條例》第3條的規定，中國自然人、法人或者其他組織創作的布圖設計，依照本條例享有布圖設計權；外國人創作的布圖設計首先在中國境內投入商業利用的，依照本條例享有布圖設計權；外國人創作的布圖設計，其創作者所屬國同中國簽訂有關布圖設計保護協議或共同參加國際條約的，依照本條例享有布圖設計權。

        （二）客體條件

        集成電路布圖設計必須具備獨創性。布圖設計應當是作者依靠自己的腦力勞動完成的，設計必須是突破常規的設計或者即使設計者使用常規設計但通過不同的組合方式體現出獨創性時，都可以獲得法律保護。

        （三）方式和程序

        目前，世界各國主要采取三種取得方式：自然取得，登記取得，使用與登記取得，大多數國家采取登記取得制。我國也采取登記制度。

        （1）申請：向國家知識產權行政部門提交申請文件；

        （2）初審；

        （3）登記并公告；

        （4）對駁回申請的復審；

        （5）登記的撤銷。

        （四）集成電路布圖設計申請階段需提交的材料：

        （1）集成電路布圖設計登記申請表。

        （2）集成電路布圖設計的復制件或者圖樣。

        （3）集成電路布圖設計已投入商業利用的，提交含有該集成電路布圖設計的集成電路樣品。 集成電路布圖設計在申請日之前已投入商業利用的，申請登記時應當提交4件含有該集成電路布圖設計的集成電路樣品。

        （4）國家知識產權局規定的其他材料。

        內容及其行使

        （一）集成電路布圖設計專有權的內容

        1、復制權:實際上是重新制作含有該布圖設計的集成電路。

        2、商業利用權:是指專有權人為商業目的而利用布圖設計或含有布圖設計的集成電路的權利。

但是布圖設計權并不包括精神權利。

        （二）布圖設計權的行使

        1、布圖設計權的轉讓

        布圖設計權的轉讓，就是權利人將其全部權利轉讓給受 讓人所有。根據我國《集成電路布圖設計保護條例》的規定，轉讓布圖設計權的，當事人應當訂立書面合同，并向國務院知識產權部門登記并公告。

        2、布圖設計權的許可

        當事人應當訂立書面合同。

        保護

        （一）保護期限

        布圖設計權的保護期限為10年，自布圖設計登記申請之日或在世界任何地方首次投入商業使用之日計算，以較前日期為準。但是，無論是否登記或投入商業利用，布圖設計自創作完成之日起15年后，不再受到保護。

        （二）侵權行為

        所謂布圖設計的侵權，是指侵犯了布圖設計人的權利，依法應當承擔的法律責任。包括侵犯布圖設計人的復制權和商業利用權。

        （三）侵權責任及制止措施

        1、侵權責任的形式

        （1）民事責任

        （2）行政責任

        2、即發侵權的制止

        限制

        （一）合理使用或利用

        1、為個人目的的復制

        2、供教學研究而復制

        （二）反向工程

        是指對他人的部圖設計進行分析、研究然后根據這種分析評價的結果創作出新的部圖設計。（此行為不視為侵權）

        （三）權利窮竭

        是指集成電路部圖設計權人或經其授權的人，將受保護的布圖設計或含有該布圖設計的半導體集成電路產品投入市場以后，對與該布圖設計或該半導體集成電路產品有關的任何商業利用行為，不再享有權利。

        （四）善意買主

        善意買主法律給予豁免。

        （五）強制許可